発表番号 4-60
The increase in efficiency of the dam foundation-grouting by High Thickness−Low Pressure Grouting Method
Masayuki MAEHARA [TOKYO ELECTRIC POWER CO.,INC ]
Takashi KOBAYASHI [TOKYO ELECTRIC POWER SERVICES CO.,LTD. ]
Yoshihiko ITO [CIVIL ENGINEERING RESERCH INSTITUTE of HOKKAIDO]
Kohkichi KIKUCHI [TOKYO ELECTRIC POWER SERVICES CO.,LTD. ]
HTLP工法によるダム基礎グラウチングの効率化について
前原 雅幸 [東京電力株式会社]
○小林 隆志 [東電設計株式会社]
伊東 佳彦 [北海道開発土木研究所]
菊地 宏吉 [東電設計株式会社]
HTLP工法は初期配合を高濃度化し比較的低圧力で注入を行うグラウチング工法である。北海道で建設中の雄武ダムシェル基礎部でＨＴＬＰ工法の現場実験を実施し、低濃度初期配合から順次高濃度配合に切り替えながら注入する従来工法とのグラウチング効率を比較検討した。その結果、従来工法よりＨＴＬＰ工法の方が単位セメント注入時間が短くなり、概ね１００分／ステージの注入時間短縮効果が期待できることが判明した。
Keyword: グラウチング, 注入効率, コストダウン
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